離子銑刻蝕系統(tǒng)是利用離子束轟擊固體表面的濺射作用，剝離加工各種幾何圖形，通過(guò)大面積離子源產(chǎn)生的離子束，可對(duì)固體材料濺射刻蝕，對(duì)固體器件進(jìn)行微細(xì)加工。
離子銑刻蝕系統(tǒng)的原理：
氬氣在輝光放電原理的作用下被分解為氬離子，氬離子通過(guò)陽(yáng)極電場(chǎng)的加速物理轟擊樣品表面來(lái)使得刻蝕的作用達(dá)到。往離子源放電室充入氬氣并且使其電離使得等離子體形成，然后通過(guò)柵極引出離子呈束狀并且加速，往工作室進(jìn)入一定能量的離子束，往固體表面射向?qū)腆w表面原子進(jìn)行轟擊，使材料原子發(fā)生濺射，使刻蝕目的達(dá)到，屬于純物理刻蝕。
離子銑刻蝕系統(tǒng)的技術(shù)指標(biāo)：
各種金屬以及氧化物等復(fù)雜體系的刻蝕等為離子束刻蝕系統(tǒng)的主要應(yīng)用，在物理，生物，化學(xué)，材料，電子等領(lǐng)域得到了非常廣泛的應(yīng)用。
裝片：一片6英寸，向下兼容任意規(guī)格樣品
極限真空：8.5e-5帕(45分鐘從atm抽至5e-4帕)
基底冷卻溫度：5-25攝氏度
樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)：自轉(zhuǎn)9rpm，傾斜0-90度
離子能量：100-650電子伏特
束流密度：0.2-0.7毫安/平方厘米
刻蝕均勻性：±5%(4英寸)
離子銑刻蝕系統(tǒng)的主要用途：
物理刻蝕的方式為離子束刻蝕系統(tǒng)所采用，任何材料各向異性的刻蝕經(jīng)過(guò)電場(chǎng)加速的離子束能夠?qū)崿F(xiàn)，并且能夠按照傾角不同對(duì)側(cè)壁形貌進(jìn)行調(diào)整與使被濺射材料的再沉積污染減少。
產(chǎn)品分類(lèi)
更新時(shí)間：2022-04-24 
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