掩模板清洗機是一款帶有小占地面積的理想設備，并且很容易安裝在空間有限的超凈間中。該系列設備都具有出眾的清洗能力，并可用于非常廣泛的基片。提供了可控的化學試劑滴膠能力，這使得顆粒從基片表面的去除能力得以進一步加強。SWC和LSC具備對點試劑滴膠系統(tǒng)，可以zui大程度節(jié)省化學試劑的用量的。滴膠系統(tǒng)支持可編程的化學試劑混合能力，提供了可控的化學試劑在整個基片上的分布。
掩模板清洗機應用：
1.帶圖案或不帶圖案的掩模版和晶圓片
2.Ge,GaAs以及InP晶圓片清洗
3.CMP處理后的晶圓片清洗
4.晶圓框架上的切粒芯片清洗
5.等離子刻蝕或光刻膠剝離后的清洗
6.帶保護膜的分劃版清洗
掩模板清洗機安裝與使用：
1.設備安裝工程的zui后驗收，在設備調試合格后進行。由設備管理部門和工藝技術部門會同其他部門，在安裝、檢查、安全、使用等各方面有關人員共同參加下進行驗收，做出鑒定，填寫安裝施工質量、精度檢驗、安全性能、試車運轉記錄等憑證和驗收移交單由參加驗收的各方人員簽字方可竣工。
2.設備開箱驗收、設備運轉試驗記錄單由參加驗收的各方人員簽字后及隨設備帶來的技術文件，由設備管理部門納入設備檔案管理；隨設備的配件、備品，應填寫備件入庫單，送交設備倉庫入庫保管。安全管理部門應就安裝試驗中的安全問題進行建檔。
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更新時間：2023-02-20 
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