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RIE-PE刻蝕機(jī)是基于真空中的高頻激勵(lì)而產(chǎn)生的輝光放電將四氟化碳中的氟離子電離出來從而獲得化學(xué)活性微粒與被刻蝕材料起化學(xué)反應(yīng)產(chǎn)生輝發(fā)性物質(zhì)進(jìn)行刻蝕的。同時(shí)為了保證氟離子的濃度和刻蝕速度必須加入一定比例的氧氣生成二氧化碳。RIE-PE刻蝕機(jī)主要對(duì)太陽能電池片周邊的P—N結(jié)進(jìn)行刻蝕，使太陽能電池片周邊呈開路狀態(tài)。也可用于半導(dǎo)體工藝中多晶硅，氮化硅的刻蝕和去膠?？涛g精度主要是用保真度、選擇比、均勻性等參數(shù)來衡量。所謂保真度度，就是要求把光刻膠的圖形轉(zhuǎn)移到其下的薄膜上,即希望只刻蝕...
1)微波等離子去膠機(jī)理：在干法等離子去膠工藝中，氧是主要腐蝕氣體。它在真空等離子去膠機(jī)反應(yīng)室中受高頻及微波能量作用，電離產(chǎn)生氧離子、游離態(tài)氧原子O*、氧分子和電子等混合的等離子體，其中具有強(qiáng)氧化能力的游離態(tài)氧原子（約占10-20%）在高頻電壓作用下與光刻膠膜反應(yīng)：O2→O*+O*，CxHy+O*→CO2↑+H2O↑。反應(yīng)后生成的CO2和H2O，隨即被抽走。2)微波等離子去膠機(jī)操作方法：將待去膠片插入石英舟并平行氣流方向，推入真空室兩電極間，抽真空到1.3Pa，通入適量氧氣，保...
熱真空試驗(yàn)箱是目前環(huán)境試驗(yàn)設(shè)備行業(yè)中zui熱門的試驗(yàn)設(shè)備之一,而林頻儀器的設(shè)備也以的環(huán)境試驗(yàn)設(shè)備和可靠性環(huán)境試驗(yàn)解決方案成為行業(yè)中的*。但是再好的設(shè)備如果使用不當(dāng)或缺少保養(yǎng)也會(huì)出現(xiàn)各種故障,今天就和各位來講講熱真空試驗(yàn)箱在使用中有可能會(huì)出現(xiàn)哪些故障以及解決方案吧。熱真空試驗(yàn)箱技術(shù)規(guī)格1、真空干燥箱是專為干燥熱敏性、易分解和易氧化物質(zhì)而設(shè)計(jì)的,工作時(shí)可使工作室內(nèi)保持一定的真空度,并能夠向內(nèi)部充入惰性氣體,特別是一些成分復(fù)雜的物品也能進(jìn)行快速干燥,采用智能型數(shù)字溫度調(diào)節(jié)儀進(jìn)行溫度...
熱真空試驗(yàn)箱是在地面上模擬太空環(huán)境的環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備。近幾年來,熱真空試驗(yàn)設(shè)備在航天航空業(yè)產(chǎn)品的研制和定型中發(fā)揮了重要作用。熱真空試驗(yàn)箱由于結(jié)構(gòu)復(fù)雜,在運(yùn)行中有時(shí)會(huì)出現(xiàn)一些異常現(xiàn)象,如果不能及時(shí)排除,將延長試驗(yàn)周期,影響產(chǎn)品的研制工作。為此,我們對(duì)熱真空試驗(yàn)箱的基本工作原理作一些簡要闡述,并介紹如何對(duì)熱真空試驗(yàn)箱的一般故障進(jìn)行分析判斷和排除。1、熱真空試驗(yàn)箱工作原理下面以和熱真空試驗(yàn)箱為例簡要介紹其工作過程。試驗(yàn)箱由主泵渦輪分子泵、機(jī)械泵、預(yù)抽閥、主抽閥等組成真空機(jī)組,對(duì)真空...
光學(xué)鍍膜設(shè)備原理磁控濺射系統(tǒng)在陰極靶材的背后放置100～1000Gauss強(qiáng)力磁鐵,真空室充入011～10Pa壓力的惰性氣體(Ar),作為氣體放電的載體。光學(xué)鍍膜設(shè)備在高壓作用下Ar原子電離成為Ar+離子和電子,電子在加速飛向基片的過程中,受到垂直于電場的磁場影響,使電子產(chǎn)生偏轉(zhuǎn),被束縛在靠近靶表面的等離子體區(qū)域內(nèi),電子以擺線的方式沿著靶表面前進(jìn),在運(yùn)動(dòng)過程中不斷與Ar原子發(fā)生碰撞,電離出大量的Ar+離子，經(jīng)過多次碰撞后電子的能量逐漸降低,擺脫磁力線的束縛,zui終落在基片、...
硅片清洗機(jī)物理清洗有三種方法：①刷洗或擦洗:可除去顆粒污染和大多數(shù)粘在片子上的薄膜。②高壓清洗：是用液體噴射片子表面，噴嘴的壓力高達(dá)幾百個(gè)大氣壓。高壓清洗靠噴射作用，片子不易產(chǎn)生劃痕和損傷。但高壓噴射會(huì)產(chǎn)生靜電作用，靠調(diào)節(jié)噴嘴到片子的距離、角度或加入防靜電劑加以避免。③超聲波清洗：超聲波聲能傳入溶液,靠氣蝕作用洗掉片子上的污染。但是,從有圖形的片子上除去小于1微米顆粒則比較困難。將頻率提高到超高頻頻段，清洗效果更好。硅片清洗機(jī)發(fā)展展望：伴隨著硅片的大直徑化,器件結(jié)構(gòu)的超微小化...
微波等離子清洗機(jī)技術(shù)的zui大特點(diǎn)是不分處理對(duì)象的基材類型，均可進(jìn)行處理，對(duì)金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環(huán)氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理，并可實(shí)現(xiàn)整體和局部以及復(fù)雜結(jié)構(gòu)的清洗。經(jīng)濟(jì)的發(fā)展，人們的生活水平不斷提高，對(duì)消費(fèi)品的質(zhì)量要求也越來越高，等離子技術(shù)隨之逐步進(jìn)入生活消費(fèi)品生產(chǎn)行業(yè)中；另外，科技的不斷發(fā)展，各種技術(shù)問題的不斷提出，新材料的不斷涌現(xiàn)，越來越多的科研機(jī)構(gòu)已認(rèn)識(shí)到等離子技術(shù)的重要性，并投入大量資金進(jìn)行技術(shù)攻關(guān)，等離...
光學(xué)鍍膜系統(tǒng)在這個(gè)階段里要設(shè)計(jì)擬定出光學(xué)系統(tǒng)原理圖，確定基本光學(xué)特性，使?jié)M足給定的技術(shù)要求，即確定放大倍率或焦距、線視場或角視視場、數(shù)值孔徑或相對(duì)孔徑、共軛距、后工作距離光闌位置和外形尺寸等。因此，常把這個(gè)階段稱為外形尺寸計(jì)算。一般都按理想光學(xué)系統(tǒng)的理論和計(jì)算公式進(jìn)行外形尺寸計(jì)算。在計(jì)算時(shí)一定要考慮機(jī)械結(jié)構(gòu)和電氣系統(tǒng)，以防止在機(jī)構(gòu)結(jié)構(gòu)上無法實(shí)現(xiàn)。每項(xiàng)性能的確定一定要合理，過高要求會(huì)使設(shè)計(jì)結(jié)果復(fù)雜造成浪費(fèi)，過低要求會(huì)使設(shè)計(jì)不符合要求，因此這一步驟慎重行事。無論是無機(jī)材料還是有機(jī)...
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